Al gradyan katkılama

Dielectric Constant Iliyoongezwa kwa Al Gradient Doping katika HfO₂-Based Metal–Insulator–Metal Capacitor Iliyotengenezwa kwa Atomic Layer Deposition

Taelim Lee na wenzake walichunguza kwa majaribio jinsi kuunda gradient iliyodhibitiwa ya mkusanyiko wa alumini katika HfO₂-based metal–insulator–metal (MIM) capacitors, badala ya kuisambaza kwa usawa katika filamu yote, kunavyobadilisha dielectric performance.

Your experience on this site will be improved by allowing cookies Cookie Policy

Dielectric Constant Iliyoongezwa kwa Al Gradient Doping katika HfO₂-Based Metal–Insulator–Metal Capacitor Iliyotengenezwa kwa Atomic Layer Deposition

Maendeleo ya Hivi Karibuni katika Ugunduzi Teule na Nyeti wa Kielektrokemia wa Ioni za Zebaki Yenye Sumu (Hg⁺) na Lithi (Li⁺) kwa Kutumia Elektrodi Iliyorekebishwa ya La-CdO/CdO na Matumizi Yake ya Fotokatalitiki

Uchunguzi wa Arkeometri wa Vifaa vya Ujenzi vya Mahekalu ya Kibudha katika Eneo la Kharkhul Khaany Balgas

Immunohistokemia ya Utabiri katika Saratani ya Mapafu Isiyo ya Seli Ndogo – Viashiria-baiolojia, Companion Diagnostics na Vipimo vya Molekuli: Mapitio ya Simulizi

Mkusanyiko wa Kimataifa wa Viwango vya In Situ vya Kaboni Ogani ya Chembechembe, Nitrojeni Ogani ya Chembechembe na Fosforasi Ogani ya Chembechembe katika Maji ya Pwani na Bahari Kuu

Usanisi, Uchunguzi wa Kispectroskopi, Uchambuzi wa X-ray na Muundo wa 3,4-Dibromo- na 3,4-Diiodo-1,2,5-Thiadiazole