17/08/2026Veri Anla Бул сереп өнүккөн жарым өткөргүч өндүрүшүндө масканы классикалык түрдө алдыга карай оңдоонун ордуна, максатталган чип үлгүсү аркылуу артка эсептеп оптималдаштырган тескери литография технологиясын (Inverse Lithography Technology, ILT) изилдейт. Көбүрөөк көрүү
Cookie тандоолору
Бул сайтта кукилерге уруксат берүү тажрыйбаңызды жакшыртат. Куки саясаты
Тандоолорду жөндөө
Бул сайтта кукилерге уруксат берүү тажрыйбаңызды жакшыртат.
